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东京电子将向ASML提供面向新一代EUV的设备

2021/06/11

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半导体

      日本半导体制造设备大型企业东京电子(Tokyo Electron)6月8日发布计划称,将向同行业的荷兰ASML和比利时的研究机构imec联合运营的实验室供应新一代设备。该设备将与ASML生产的属于尖端光刻设备的“EUV(极紫外)光刻设备”的新一代产品进行组合。东京电子将自研发阶段开始携手半导体微细化技术的领跑企业,以提升开发竞争力。

        

全球目前只有荷兰ASML能生产极紫外(EUV)光刻设备

        

      东京电子将供应设备的对象是ASML和imec联合运营的“imec-ASML高NA EUV实验室”(位于费尔德霍芬市)。该实验室在缩小半导体电路线宽的微细化技术研发(R&D)方面具备世界顶尖水平。

  

      东京电子将提供在半导体晶圆上涂布感光剂(光刻胶)使之显影的“涂布显影设备(Coater Developer)”。这是东京电子首次向上述实验室提供设备。将通过涉足最尖端半导体的研发,提升竞争优势性。

  

      据调查公司GlobalNet(位于东京中央区)统计,东京电子在涂布显影设备市场掌握近9成的全球份额。在面向EUV光刻设备方面,东京电子拥有100%的份额。

  

      在共同研究方面,将把ASML的新一代EUV光刻设备和东京电子的涂布显影设备组合为一体,提高半导体的生产效率。东京电子最早将于2022年上半年提供自己的设备,组合起来的设备则计划最快于2023年投入使用。

       

东京电子和imec的签字仪式

   

      在半导体的微细化方面,现在将线宽缩小至5纳米的半导体已投入量产。半导体的世界级厂商台积电(TSMC)在微细化方面走在行业最前列,向美国苹果的智能手机“iPhone12”等供应半导体芯片。

     

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