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日本半导体设备厂商纽富来社长谈市场

2020/09/02

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半导体

      在用于5G和自动驾驶的高性能半导体需求持续扩大的同时,最尖端半导体的投资成本也越来越高。东芝旗下的纽富来(NuFlare Technology)是一家大型电子束掩膜光刻设备制造商,其产品可在光掩膜上刻画出精细图案。关于市场需求动向和业务战略,日本经济新闻(中文版:日经中文网)采访了纽富来社长杉本茂树。

  

NuFlare Technology将扩充光刻设备的产品阵容

  

      记者:请介绍一下最尖端光刻设备的研发状况。

 

      杉本茂树:我们正在研究5纳米线宽、26万束激光的多束光刻设备,但第一代产品很困难。想让26万束激光进行高速开闭,但不能稳定运行。本公司没有将特殊的大规模集成电路(LSI)与MEMS组合起来的技术,于是让母公司东芝来研发。

 

      在我们的研发迟迟没有进展期间,客户的需求已经从5纳米升级到3纳米。现在正进行下一代设备的研发,在技术上与第一代有重叠的部分。虽然研发时费尽周折,但对下一代设备有帮助。

 

      记者:从4月起成为东芝的全资子公司,带来了什么效果吗?

 

      杉本茂树:虽然没有什么颠覆性的变化,但向母公司提出什么请求时,回应变得更快了。研发体制也由25人扩充到180人。

 

      记者:会继续走精细化的道路吗?

 

      杉本茂树:追求精细化是迄今为止的主要发展方向,但线宽不那么精细的器件市场也在扩大。最尖端的半导体需要庞大的研发经费,能进行巨额设备投资的企业并不多。与此同时,半导体的市场基础在扩大。线宽上落后1~2代的设备的需求也在提高,我们将通过应对各种各样的线宽来满足客户的需求。

  

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