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半导体EUV的竞争战火烧到周边设备

2020/07/28

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       围绕新一代的半导体制造技术“EUV(极紫外)”,设备企业的竞争日趋激化。东京电子将在2020财年(截至2021年3月)投入创出历史新高的开发费,Lasertec的订单额也在过去1年翻了一番。在EUV相关设备市场,荷兰的ASML垄断了核心的光刻机,但在检测和光源等领域,日本企业的存在感也在提高。

 

      “如果EUV得到普及,更高端设备的需求将增加”,半导体制造设备全球第3大制造商东京电子社长河合利树如此表示。2020财年将投入创出历史新高的1350亿日元研发费。

 

 

      东京电子的优势是“涂布显影设备(Coater Developer)”。该设备用于在作为半导体材料的硅晶圆上涂覆特殊化学药液使之显影。在EUV量产设备领域,该公司的市场份额为100%。本财年的合并销售额预计达到1.28万亿日元。其中的1成以上将用于研究开发,以在EUV的普及阶段巩固领先优势。

 

      在每年超过6万亿日元的半导体制造设备市场,正在发生代际更迭。

 

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