日经中文网
NIKKEI——日本经济新闻中文版

  • 20xx 水曜日
  • 0708

  • 搜索
Home > 产业聚焦 > IT/家电 > 大日本印刷掌握支持5纳米制程的光掩膜量产工艺

大日本印刷掌握支持5纳米制程的光掩膜量产工艺

2020/07/10

PRINT

  大日本印刷(DNP)开发出光掩膜(Photomask,掩膜板)量产工艺,可支持最尖端的电路线宽5纳米半导体的生产。此外,还与比利时的研发机构IMEC等合作,着手面向3纳米产品进行研发。准备抓住面向5G和自动驾驶技术不断扩大的高性能半导体需求,力争到2023年实现每年60亿日元的销售额。  

   

  光掩膜是大量生产微细电路半导体所不可缺少的材料,通过描绘电路图案的光掩膜进行曝光,将电路刻蚀到硅晶圆上。

    

  电路的线宽越精细,半导体的性能就越高,但光掩膜的制造也更费时间。为此,大日本印刷引入由日本电子和IMS Nanofabrication(奥地利)研发的采用26万根电子束在光掩膜上描绘电路图案的设备等,提高了生产效率。以往使用的设备采用1根电子束进行描绘。

   

  目前量产5纳米线宽半导体的有台湾积体电路制造(台积电,TSMC)和三星电子,这两家公司的光掩膜均为内部自行生产。大日本印刷打算在“第2集团”厂商普及生产5纳米半导体时获得光掩膜的订单。

    

  围绕支持5纳米电路线宽半导体的光掩膜,大日本印刷的竞争对手凸版印刷也将在2021年形成量产体制。

    

版权声明:日本经济新闻社版权所有,未经授权不得转载或部分复制,违者必究。
ad

ad

二维码

日经中文网
公众平台上线!
请扫描二维码,马上关注!

金融市场

日经225指数22329.94-88.2108/07close
日经亚洲3001399.04-15.1708/07close
美元/日元105.85-0.0908/1006:20
美元/人民元6.96700.000208/09close
道琼斯指数27433.4846.5008/07close
富时1006032.1805.24008/07close
上海综合3354.0352-32.427908/07close
恒生指数24531.62-398.9608/07close
纽约黄金2010.1-41.408/07close

关于日经指数